文章摘要:目的对比研究常规与超高速激光熔覆涂层的微观组织、相结构，明确涂层结构及性能间的构效关系。方法以27SiMn为基体，分别采用常规和超高速激光熔覆技术制备Fe基涂层。采用扫描电镜（SEM）表征涂层显微组织，能谱仪（EDS）分析涂层元素分布；采用X射线衍射仪（XRD）、光学显微镜（OM）和电子背散射衍射（EBSD）方法分析涂层相组成。采用显微硬度计、电化学工作站等测试涂层硬度分布及电化学特性。结果常规与超高速激光熔覆涂层组织致密，均无明显气孔和裂纹等缺陷。相较于常规激光熔覆涂层，超高速激光熔覆涂层晶粒更为细小，涂层成分接近粉末设计成分，晶内和晶间Cr元素分布更为均匀。两种工艺制备的涂层均由马氏体、铁素体和M型碳化物组成，但是超高速激光熔覆涂层所含马氏体和碳化物含量更低，使其硬度低于常规激光熔覆涂层。同时，与常规激光熔覆涂层相比，超高速激光熔覆涂层的自腐蚀电位由－0.56V升高至－0.51V，自腐蚀电流密度由1.3×10^–5 A/cm²显著降低至1.5×10^–7A/cm²。结论 与常规激光熔覆相比，超高速激光熔覆涂层晶粒细小，成分均匀，具有更优异的耐腐蚀性能；与此同时，涂层马氏体及碳化物含量更少，硬度更低。

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论文分类号:TG174.4;TG665